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ASML首席技术官认为当前光刻技术或走到尽头
时间:2010-12-5 17:23:32 作者:北方国际 来源:国际米兰 查看: 评论:0
内容摘要:近年来,ASML站到了世界半导体技术的中心位置。去年ASML两次提高了生产目标,希望到2025年,其年出货量能达到约600台DUV深紫外光)光刻机以及90台EUV极紫外光)光刻机。由于持续的芯片短缺,
近年来,ASML站到了世界半导体技术的中心位置。去年ASML两次提高了生产目标,希望到2025年,其年出货量能达到约600台DUV深紫外光)光刻机以及90台EUV极紫外光)光刻机。由于持续的芯片短缺,
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